[发明专利]物理气相沉积设备及其方法有效
| 申请号： | 201910926708.2 | 申请日： | 2019-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN110965033B | 公开（公告）日： | 2022-12-23 |
| 发明（设计）人： | 王嘉熙;何昆哲;陈彦羽 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种物理气相沉积设备及其方法。物理气相沉积方法包括使靶材的背侧上方的第一磁性体倾斜。绕着延伸穿过靶材的轴线移动第一磁性体。随后，吸引带电离子以轰击靶材，使得粒子自靶材射出并沉积在晶圆的表面上方。通过使磁性体相对于靶材倾斜，磁场的分布可更加随机及均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 物理 沉积 设备 及其 方法 | ||
【主权项】：
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