[发明专利]一种强织构硒化锡宏观热电薄膜的制备方法有效
| 申请号： | 201910932533.6 | 申请日： | 2019-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN110527977B | 公开（公告）日： | 2020-12-11 |
| 发明（设计）人： | 朱宏伟;钟雨嘉 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | C23C16/30 | 分类号： | C23C16/30;C23C16/448 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 邸更岩 |
| 地址： | 100084 北京市海淀区北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种强织构硒化锡宏观热电薄膜的制备方法，属于薄膜材料制备技术领域。该方法采用化学气相沉积法，以商用硒化锡颗粒为原料，使用剥离的氟晶云母片为衬底，以氩气为载气，在低压无氧的环境下一步制备出连续致密的硒化锡薄膜。薄膜呈(400)强织构，晶粒内部保持硒化锡晶体的面内取向。在550K的温度下，薄膜的热电优值ZT为0.15。本发明简单易操作、对设备和制备环境要求低、制备周期短，是一种大规模制备高质量柔性硒化锡薄膜的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 强织构硒化锡 宏观 热电 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种强织构硒化锡宏观热电薄膜的制备方法，其特征在于所述方法包括如下步骤：/n1)以硒化锡粉末为原料，以氟晶云母片为衬底；/n2)将所述硒化锡粉末置于管式炉石英管中心，所述衬底沿气流方向置于硒化锡粉末的下游位置；将反应体系密封后，反复抽真空和通氩气以除去体系中的氧气；/n3)通入氩气作为保护气和载气，利用真空泵保持反应体系的气压为30-50Pa，在温度为400-500℃的条件下进行化学气相沉积反应，反应时间为15-60min，即制备得到所述强织构硒化锡热电薄膜。/n
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
