[发明专利]屏障浆料去除速率改善在审
| 申请号： | 201910932623.5 | 申请日： | 2019-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN111087929A | 公开（公告）日： | 2020-05-01 |
| 发明（设计）人： | 甘露;J·A·施吕特 | 申请（专利权）人： | 弗萨姆材料美国有限责任公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/306 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 吴亦华;徐志明 |
| 地址： | 美国亚*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供了用于屏障层和层间介电(ILD)结构或图案化介电层应用的化学机械平面化抛光(CMP)组合物。所述CMP组合物含有磨料；化学添加剂，所述化学添加剂包括多元酸及其盐；腐蚀抑制剂；和水溶性溶剂；及任选地，第二速率增强剂、表面活性剂、pH调节剂、氧化剂和螯合剂。 | ||
| 搜索关键词： | 屏障 浆料 去除 速率 改善 | ||
【主权项】：
暂无信息
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