[发明专利]一种阵列基板、OLED显示面板、掩膜板有效
| 申请号： | 201910934726.5 | 申请日： | 2019-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN110690259B | 公开（公告）日： | 2021-05-28 |
| 发明（设计）人： | 张兴永 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L27/32 | 分类号： | H01L27/32 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 汪阮磊 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请提供一种阵列基板、OLED显示面板、掩膜板，阵列基板上包括预设成膜区域和围绕预设成膜区域的非成膜区域，非成膜区域内包括阴影区域，阴影区域围绕且紧邻预设成膜区域；待制备于阵列基板上的膜层的实际成膜区域包括预设成膜区域和阴影区域，本申请通过在阵列基板对应阴影区域内设置凹槽或凸起，使得制备于阵列基板上的膜层在对应凹槽或凸起处断开，形成不连续薄膜，从而防止阴影区域的膜层对预设成膜区域的膜层造成连带的不良影响。本申请还通过对掩膜板开口边缘进行处理，以缩小阴影区域面积，从而有利于显示面板窄边框设计和减小阴影效应的影响。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 阵列 oled 显示 面板 掩膜板 | ||
【主权项】：
1.一种阵列基板，其特征在于，包括预设成膜区域和围绕所述预设成膜区域的非成膜区域，所述非成膜区域内包括阴影区域，所述阴影区域围绕且紧邻所述预设成膜区域；/n待制备于所述阵列基板上的膜层的实际成膜区域包括所述预设成膜区域和所述阴影区域；/n其中，所述阵列基板在对应所述阴影区域内设置有凹槽或凸起，使得所述膜层在对应所述凹槽或所述凸起处断开。/n
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的；包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的；包括有热磁组件的
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的；包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的；包括有热磁组件的
