[发明专利]掩模框架、掩模板以及掩模结构有效
| 申请号： | 201910934926.0 | 申请日： | 2019-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN110541144B | 公开（公告）日： | 2022-05-17 |
| 发明（设计）人： | 付佳;刘臻栋;李文星;范柳彬 | 申请（专利权）人： | 昆山国显光电有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24;C23C14/12 |
| 代理公司： | 北京华进京联知识产权代理有限公司 11606 | 代理人： | 魏朋 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种掩模框架、掩模板及掩模结构，掩模框架包括：主框体，围合形成蒸镀区域；支撑组件，设于所述主框体并至少部分位于所述蒸镀区域内，所述支撑组件包括支撑面及限位部，所述支撑面用于支撑所述掩模板，所述限位部形成于至少部分所述支撑面上，并在平行于所述掩模板中蒸镀面的平面内限制所述掩模板的移动。如此，当磁板产生的磁场与基板的压力作用于掩模结构时，在限位部的限位作用下，掩模板难以在平行于蒸镀面的平面内相对掩模框架移动，从而避免掩模板因移动受到损伤，提高蒸镀效果。 | ||
| 搜索关键词： | 框架 模板 以及 结构 | ||
【主权项】：
1.一种掩模框架，用于支撑掩模板，其特征在于，所述掩模框架包括：/n主框体，围合形成蒸镀区域；及/n支撑组件，设于所述主框体并至少部分位于所述蒸镀区域内，所述支撑组件包括支撑面及限位部，所述支撑面用于支撑所述掩模板，所述限位部形成于至少部分所述支撑面上，并在平行于所述掩模板中蒸镀面的平面内限制所述掩模板的移动。/n
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