[发明专利]限位机构、掩模台及光刻机有效
| 申请号： | 201910935175.4 | 申请日： | 2019-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN112578639B | 公开（公告）日： | 2022-02-15 |
| 发明（设计）人： | 钱林峰;黄亚庆;丛国栋 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种限位机构、掩模台及光刻机，运动部件设置于掩模台框架上并能够相对所述掩模台框架移动，限位机构设置于所述掩模台框架的掩模交接位上，所述限位机构的位置检测模块用于检测所述运动部件是否移动至所述掩模交接位时，所述限位机构的限位模块在所述运动部件到位时伸出以对所述运动部件进行限位，从而实现了进行掩模板交接时对所述运动部件进行限位的功能，保证了掩模板交接时的安全性。 | ||
| 搜索关键词： | 限位 机构 掩模台 光刻 | ||
【主权项】：
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