[发明专利]校准曲线制作方法、分析装置及非易失性存储介质在审
| 申请号： | 201910935610.3 | 申请日： | 2019-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN110967511A | 公开（公告）日： | 2020-04-07 |
| 发明（设计）人： | 森浦一真;黑野浩司 | 申请（专利权）人： | 希森美康株式会社 |
| 主分类号： | G01N35/00 | 分类号： | G01N35/00;G01N33/49;G01N33/86 |
| 代理公司： | 北京市安伦律师事务所 11339 | 代理人： | 杨永波;赵彩虹 |
| 地址： | 日本兵库县神户市*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种能更加迅速地修正包括疑似错误的测定值在内的校准曲线的制作方法，所述方法包括：通过将容器内的校准品分装至一个或多个容器由此制备稀释倍率不同的数个校准品的步骤；通过对制备的数个校准品的每一个进行测定由此获取数个测定值的步骤；使用数个测定值制作校准曲线的步骤；选择数个测定值中成为再次测定对象的第1测定值的步骤；得到以与选择的第1测定值相对应的稀释倍率制备的另一个校准品的步骤；通过对制备的另一个校准品进行测定由此测定第2测定值的步骤；将数个测定值中的第1测定值置换为第2测定值，由此制作新的校准曲线的步骤。 | ||
| 搜索关键词： | 校准 曲线 制作方法 分析 装置 非易失性 存储 介质 | ||
【主权项】：
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