[发明专利]一种多量子阱结构、光电器件外延片及光电器件在审

专利信息
申请号: 201910939163.9 申请日: 2019-09-27
公开(公告)号: CN110660872A 公开(公告)日: 2020-01-07
发明(设计)人: 孙海定;余华斌 申请(专利权)人: 中国科学技术大学
主分类号: H01L31/0352 分类号: H01L31/0352;H01L33/06;H01S5/343
代理公司: 11021 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 方丁一
地址: 230026 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 一种多量子阱结构、光电器件外延片及光电器件,其中,多量子阱结构由交替生长的第一量子垒层和第一量子阱层组成,多量子阱结构中,沿其生长方向的最后一层为第一量子阱层。通过将多量子阱结构的最后一层设置为量子阱层,有效抑制了电子从有源区溢出,并将其应用于光电器件外延片及光电器件中,提升了光电器件的内量子效率、外量子效率和光输出功率,实现了大功率光电器件的制备。
搜索关键词: 光电器件 多量子阱结构 量子阱层 外延片 大功率光电器件 光输出功率 内量子效率 外量子效率 交替生长 量子垒层 生长方向 有效抑制 源区 制备 溢出 应用
【主权项】:
1.一种多量子阱结构,由交替生长的第一量子垒层和第一量子阱层组成,其中,所述多量子阱结构中,沿其生长方向的最后一层为所述第一量子阱层。/n
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