[发明专利]配体、量子点及量子点层的图案化方法在审
申请号: | 201910939515.0 | 申请日: | 2019-09-30 |
公开(公告)号: | CN110590549A | 公开(公告)日: | 2019-12-20 |
发明(设计)人: | 梅文海;张振琦;张爱迪;张晓远;王好伟 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | C07C59/90 | 分类号: | C07C59/90;C09K11/02;C09K11/88;H01L51/50;H01L51/54 |
代理公司: | 11243 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人: | 刘伟;蔡丽 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及显示领域,尤其涉及配体、量子点及量子点层的图案化方法。本发明提供一种配体,包括配位单元、裂解单元和粘附力调节单元。本发明提供的量子点表面连接有所述配体。本发明提供的图案化方法为:提供一基底层;在所述基底层上涂覆含有所述量子点的混合物,形成量子点膜;利用紫外光对预设区域内的量子点膜进行曝光处理,配体中的裂解单元发生光解反应,其中分解后含有粘附力调节单元的分子链段由量子点表面脱落;采用有机溶剂洗涤去除未经过曝光处理的量子点膜,干燥后,形成图案化的量子点层。本发明形成的量子点层具有较高的分辨率。 | ||
搜索关键词: | 量子点 配体 量子点层 图案化 量子点表面 裂解单元 曝光处理 基底层 力调节 粘附 有机溶剂洗涤 分子链段 预设区域 紫外光 混合物 分辨率 光解 配位 去除 涂覆 分解 | ||
【主权项】:
1.一种配体,其特征在于,具有如通式I所示的结构,/nA-B-C (I);/n其中,A为配位单元,B为裂解单元,C为粘附力调节单元;/n所述配位单元包括巯基、羟基、胺基、氨基、羧基、磷酸基、磷酯基和磺酸基中的任意一种;/n所述裂解单元具有如式II~IV所示的结构;/n所述粘附力调节单元为含有3个碳原子以上的全氟烷基、或者含有8个以上亲水性官能团的基团或者含有8个以上亲水性官能团的分子链;所述亲水性官能团为羟基、醛基、酯基或醚基;/n
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