[发明专利]一种衬底隔离环的版图结构

摘要

本发明公开了一种衬底隔离环的版图结构，版图结构包括：由多个长度相同或不同的N阱隔离环单元首尾相连构成的封闭或不封闭的N阱隔离环和由多个长度相同或不同的P阱隔离环单元首尾相连构成的封闭或不封闭的P阱隔离环。本发明采用的衬底隔离环单元可以重复应用在版图设计中的各个场景，并且完全满足工艺设计规范，提高集成电路版图设计的效率，减轻版图设计人员的压缩产品流片时间的压力。