[发明专利]用于在光学构件的拱曲的面上制造（亚）微结构的方法以及光学构件有效
| 申请号： | 201910949142.5 | 申请日： | 2019-10-08 |
| 公开（公告）号： | CN110989291B | 公开（公告）日： | 2023-08-01 |
| 发明（设计）人： | J.居特尔 | 申请（专利权）人： | ZKW集团有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 梁冰;李雪莹 |
| 地址： | 奥地利韦*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于在光学构件的拱曲的面上制造（亚）微结构的方法，该方法具有下列方法步骤：提供带有能分离的强化箔的弹性的载体箔；提供有（亚）微结构的模型对象；将成型膜涂敷在载体箔的前侧上；在形成结构化的成型膜的情况下将模型对象的（亚）微结构成型；将用结构化的成型膜涂层的载体箔连同强化箔夹紧在保持框架中；将转印膜涂敷到结构化的成型膜上；将所述强化箔与所述载体箔的后侧分离；在形成结构化的转印膜的情况下将有待结构化的光学工件压紧到用所述转印膜涂层的结构化的成型膜上；在形成用（亚）微结构结构化的光学构件的情况下使附着在工件上的结构化的转印膜时效强化；将所述结构化的光学构件从成型膜取下。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光学 构件 面上 制造 微结构 方法 以及 | ||
【主权项】：
暂无信息
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