[发明专利]低辐射玻璃中银膜在衬底上结晶有序性的预测方法及装置有效
| 申请号： | 201910956727.X | 申请日： | 2019-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN110824137B | 公开（公告）日： | 2022-03-11 |
| 发明（设计）人： | 孙文明;张艳鹏;余刚 | 申请（专利权）人： | 中国建筑材料科学研究总院有限公司 |
| 主分类号： | G01N33/204 | 分类号： | G01N33/204 |
| 代理公司： | 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 | 代理人： | 刘铁生;孟阿妮 |
| 地址： | 100024*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明主要目的在于提供一种低辐射玻璃中银膜在衬底上结晶有序性的预测方法及装置。所述方法包括：分别获取银膜于不同覆盖度下在候选衬底材料、第二参比衬底材料上的最优吸附构型的参数；通过银原子吸附于衬底上的平均吸附能预测银膜在所述的候选衬底材料上的结晶有序性；其中，所述的平均吸附能是指吸附构型中平均每吸附一个银原子所吸收的能量。所要解决的技术问题是利用计算机模拟技术，不需要实际制造膜层实体即可评价和预测银膜在衬底材料的结晶有序性，实现对新型衬底材料的预测和筛选，有望提高研发效率并大幅度节省试验费用，成为薄膜涂层研发的有效辅助工具，从而更加适于实用。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射 玻璃 中银膜 衬底 结晶 有序性 预测 方法 装置 | ||
【主权项】：
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