[发明专利]一种单光子Si-APD探测器及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201910957824.0 申请日: 2019-10-10
公开(公告)号: CN110676333B 公开(公告)日: 2021-05-11
发明(设计)人: 郭安然;雷仁方;李睿智;高建威;向华兵 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第四十四研究所
主分类号: H01L31/0352 分类号: H01L31/0352;H01L31/107;H01L31/18
代理公司: 重庆辉腾律师事务所 50215 代理人: 王海军
地址: 400060 *** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 发明提出了一种单光子Si‑APD探测器,包括:吸收区、P+接触区、N+接触区、雪崩区、介质层,所述P型衬底表面中部设置吸收区,所述吸收区下方设置P+接触区,所述P+接触区下方设置有下电极;所述吸收区上部的两端位置设置有截止环;所述吸收区的上部的中间位置设置雪崩区,且雪崩区由P型杂质和N型杂质补偿掺杂形成;所述雪崩区之上设置N+接触区;所述雪崩区两侧各设有一个保护环,所述保护环上方设置有上电极;所述N+接触区上方设置介质层。该单光子Si‑APD探测器具有较宽的雪崩区且制造过程引入缺陷很少,可实现高探测效率低暗计数的器件性能。
搜索关键词: 一种 光子 si apd 探测器 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种单光子Si-APD探测器,包括:P型衬底、吸收区、P
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