[发明专利]显示基板的制造方法、显示基板和显示装置在审

申请号：	201910958015.1	申请日：	2019-10-10
公开（公告）号：	CN110676222A	公开（公告）日：	2020-01-10
发明（设计）人：	陈琳;杨成绍;马涛;王登峰;韩领	申请（专利权）人：	合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号：	H01L21/84	分类号：	H01L21/84;H01L27/12
代理公司：	11112 北京天昊联合知识产权代理有限公司	代理人：	柴亮;张天舒
地址：	230012 ***	国省代码：	安徽;34
权利要求书：	查看更多	说明书：	查看更多
摘要：	本发明提供一种显示基板的制造方法、显示基板和显示装置，属于显示技术领域，其可至少部分解决现有的显示基板中残沙不良的问题。本发明的显示基板的制造方法包括提供基底，在基底上形成有钝化层；在所述钝化层背向所述基底一侧形成非晶态的氧化物导电材料层；在氧化物导电材料层上形成光刻胶图案，光刻胶图案具有暴露区域；对光刻胶图案的暴露区域内的氧化物导电材料层进行刻蚀，以形成镂空位置；去除光刻胶图案的暴露区域内的部分厚度的钝化层材料。
搜索关键词：	显示基板氧化物导电材料光刻胶图案暴露区域基底钝化层钝化层材料刻胶图案显示装置镂空位置非晶态残沙刻蚀去除制造
钻瓜网技术展会专利词库专利权人专利榜在售专利公布日期热门专利

【主权项】：

1.一种显示基板的制造方法，其特征在于，包括：/n提供基底，在所述基底上形成有钝化层；/n在所述钝化层背向所述基底一侧形成非晶态的氧化物导电材料层；/n在所述氧化物导电材料层上形成光刻胶图案，所述光刻胶图案具有暴露区域，所述暴露区域内的光刻胶被去除且暴露对应位置处的氧化物导电材料层；/n对所述光刻胶图案的暴露区域内的氧化物导电材料层进行刻蚀，以形成镂空位置；/n去除所述光刻胶图案的暴露区域内的部分厚度的钝化层材料。/n

下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。

免登录下载普通用户下载升级VIP会员，免费下载

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司，未经合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】

本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910958015.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。

同类专利

专利分类

H 电学

H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造

免登录下载普通用户下载升级VIP会员，免费下载

[发明专利]显示基板的制造方法、显示基板和显示装置在审

专利文献下载