[发明专利]具有超薄合成反铁磁层的磁性隧道结单元在审

专利信息
申请号: 201910960364.7 申请日: 2019-10-10
公开(公告)号: CN112652704A 公开(公告)日: 2021-04-13
发明(设计)人: 张云森;郭一民;陈峻;肖荣福 申请(专利权)人: 上海磁宇信息科技有限公司
主分类号: H01L43/08 分类号: H01L43/08;H01L43/10;H01L27/22;G11C11/16
代理公司: 上海容慧专利代理事务所(普通合伙) 31287 代理人: 于晓菁
地址: 201815 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种具有超薄合成反铁磁层的磁性隧道结单元的磁性随机存储单元,透过直接在磁性隧道结的参考层之下方,制备合成反铁磁层。合成反铁磁层为叠加的多层结构,从下至上分别为超薄铁磁超晶格层和反铁磁耦合层的双层结构;其中该反铁磁耦合层下至上分别为RKKY反铁磁耦合层,晶格转换层和硼碳吸收层的依次向上叠加而成。透过一种含有三亚层的反铁磁耦合层的合成反铁磁层的磁性隧道结单元结构,极大的减小了整个合成反铁磁层和参考层的总厚度,且能够承受在400℃条件下的长时间退火,具有更强的漏磁场(HStray)和写电流调控能力,非常有利于磁性随机存储器在磁学、电学和良率方面的提升,以及器件的进一步缩微化。
搜索关键词: 具有 超薄 合成 反铁磁层 磁性 隧道 单元
【主权项】:
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