[发明专利]拼接曝光系统及采用该系统的拼接曝光方法在审
申请号: | 201910960496.X | 申请日: | 2019-10-10 |
公开(公告)号: | CN110687757A | 公开(公告)日: | 2020-01-14 |
发明(设计)人: | 杜鹏 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G03F7/22 | 分类号: | G03F7/22;G03F7/20 |
代理公司: | 44300 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) | 代理人: | 杨瑞 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明披露了一种拼接曝光系统及采用该系统的拼接曝光方法,其通过重新设计适用于超大尺寸显示面板的拼接曝光系统,以实现大尺寸或曲面显示面板的高效制作,并且可以减少对成本和产能造成的影响。 | ||
搜索关键词: | 拼接 曝光系统 尺寸显示面板 曲面显示面板 重新设计 产能 曝光 制作 | ||
【主权项】:
1.一种拼接曝光系统,应用于一显示面板,所述显示面板划分成多个曝光区域,其特征在于,所述拼接曝光系统包括:/n一掩膜板,所述掩膜板覆盖所述多个曝光区域中的其中一个曝光区域,所述掩膜板用于对所述曝光区域进行曝光;/n一对挡板,所述一对挡板均设置于所述掩膜板的上方,所述一对挡板包括第一挡板和一第二挡板,所述第一挡板和所述第二挡板相对设置,所述第一挡板的一侧具有一第一透光区,所述第二挡板靠近所述第一透光区的一侧具有一第二透光区,所述第一透光区的中心线和所述第二透光区的中心线的其中一条与两个相邻曝光区域的拼接线重合。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电技术有限公司,未经深圳市华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910960496.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:控制装置、曝光装置、以及制造物品的方法
- 下一篇:晶圆显影装置及其显影方法