[发明专利]一种固态纳米孔修饰处理方法在审
申请号: | 201910961514.6 | 申请日: | 2019-10-11 |
公开(公告)号: | CN110736775A | 公开(公告)日: | 2020-01-31 |
发明(设计)人: | 古家强;伊戈尔·伊万诺夫;何筠;田晖 | 申请(专利权)人: | 深圳清华大学研究院;安序源生物科技(深圳)有限公司 |
主分类号: | G01N27/26 | 分类号: | G01N27/26;B82Y40/00;B82Y30/00 |
代理公司: | 44205 广州嘉权专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 张建珍 |
地址: | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种固态纳米孔修饰处理方法,包括以下步骤:1)对固态纳米孔进行清洗和干燥;2)将清洗和干燥处理过的固态纳米孔置于等离子清洗机中,进行表面等离子处理,得到羟基化的固态纳米孔;3)将硅烷溶液涂覆在羟基化的固态纳米孔上,保护气氛下进行硅烷化,再进行清洗和干燥,得到硅烷化的固态纳米孔;4)对硅烷化的固态纳米孔进行烘烤处理、清洗和干燥。本发明在短时间内便可以对大量固态纳米孔进行快速有效的修饰处理,对实验设备条件要求简单,成本低廉。 | ||
搜索关键词: | 固态纳米 清洗 硅烷化 羟基化 修饰 等离子清洗机 表面等离子 干燥处理 硅烷溶液 烘烤处理 实验设备 条件要求 涂覆 | ||
【主权项】:
1.一种固态纳米孔修饰处理方法,其特征在于:包括以下步骤:/n1)对固态纳米孔进行清洗和干燥;/n2)将清洗和干燥处理过的固态纳米孔置于等离子清洗机中,进行表面等离子处理,得到羟基化的固态纳米孔;/n3)将硅烷溶液涂覆在羟基化的固态纳米孔上,保护气氛下进行硅烷化,再进行清洗和干燥,得到硅烷化的固态纳米孔;/n4)对硅烷化的固态纳米孔进行烘烤处理、清洗和干燥。/n
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