[发明专利]一种像元级多光谱滤光片的制备方法有效
| 申请号： | 201910962992.9 | 申请日： | 2019-10-11 |
| 公开（公告）号： | CN110703375B | 公开（公告）日： | 2020-11-24 |
| 发明（设计）人： | 杨海贵;张建;王笑夷;杨飞;张卓;高劲松 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所;长春长光辰谱科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/20 | 分类号： | G02B5/20;G02B5/28 |
| 代理公司： | 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 | 代理人： | 曹卫良 |
| 地址： | 130033 吉林省长春*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种像元级多光谱滤光片的制备方法，包括：在基底上沉积具有良好光谱通带特性的较厚宽带通滤光膜堆；在带通滤光膜堆上制备图形化的金属薄膜；在图形化的金属薄膜上干法刻蚀带滤光膜堆，制备出一个陡峭的台阶状光谱通道单元；重复以上步骤制备出其它数个光谱通道单元；最后去掉所有光谱通道单元上的金属膜。本发明提供的像元级多光谱滤光片的制备方法，可以形成厚度为5‑15微米较厚阵列式周期性排列的带通滤光膜堆，有利于提高像元级多光谱滤光片光谱通道的通带特性，利用了图形化的金属薄膜作为掩膜层和刻蚀停止层，阻止已形成的光谱通道单元免于刻蚀，降低制备过程中的阴影遮蔽效应以保证通道单元外形尺寸完整性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 像元级多 光谱 滤光 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种像元级多光谱滤光片的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：/nS1：利用膜系设计软件设计宽带通滤光膜堆的结构，设计的通带平均透过率优于85％，阻带平均透过率小于5％；/nS2：清洁基底，在所述基底上镀制第一宽带通滤光膜堆；/nS3：在所述第一宽带通滤光膜堆上沉积金属薄膜，并图形化金属薄膜，图形化的金属薄膜为阵列式周期性排列的金属薄膜单元结构，每个金属薄膜单元结构的尺寸为5-30微米，与探测器芯片像元一一对应；/nS4：以所述图形化的金属薄膜作为掩膜层，利用干法刻蚀方法刻蚀金属掩膜层以外的所述第一宽带通滤光膜堆，形成第一个阵列式周期性排列的光谱通道单元；/nS5：重复步骤S1-S4，重复(N-1)次，在步骤S2中镀制第二宽带通滤光膜堆、第三宽带通滤光膜堆…第N宽带通滤光膜堆，对应依次形成第二个、第三个…第N个阵列式周期性排列的光谱通道单元；/nS6：去除所有阵列式周期性排列的光谱通道单元表面的金属薄膜，得到像元级多光谱滤光片。/n
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