[发明专利]一种提高植砂均匀性的静电植砂结构及其静电植砂设备在审
| 申请号： | 201910971185.3 | 申请日： | 2019-10-14 |
| 公开（公告）号： | CN110605222A | 公开（公告）日： | 2019-12-24 |
| 发明（设计）人： | 雷龙长 | 申请（专利权）人： | 雷龙长 |
| 主分类号： | B05C19/04 | 分类号： | B05C19/04 |
| 代理公司： | 51214 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 | 代理人： | 蒋仕平;孙杰 |
| 地址： | 621100 四川省绵阳*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种提高植砂均匀性的静电植砂结构及其静电植砂设备，属于静电植砂的设备技术领域。本发明的一种提高植砂均匀性的静电植砂结构，包括输送带、上极板、下极板；其中，上极板布置于下极板上方，用于产生使砂粒向上运动的电力场；输送带布置于上极板与下极板之间，用于输送砂粒；基材行走路径位于上极板与输送带之间，基材行走路径是植砂时基材行走的路径；还包括筛网，筛网布置于输送带与基材行走路径之间，用于均匀化砂粒，以使得砂粒先上升穿过筛网被均匀化后、再附着于基材上。采用本发明进行基材的植砂作业时，能够提高植砂的均匀性，使得砂粒能够更加均匀的分布于基材上，生产的产品质量更佳。 | ||
| 搜索关键词： | 基材 输送带 砂粒 植砂 上极板 静电植砂 行走路径 均匀性 下极板 筛网 均匀化 静电植砂设备 设备技术领域 向上运动 电力场 再附着 时基 穿过 生产 | ||
【主权项】：
1.一种提高植砂均匀性的静电植砂结构，包括输送带(1)、上极板(3)、下极板(4)；其中，/n上极板(3)布置于下极板(4)上方，用于产生使砂粒向上运动的电力场；/n输送带(1)布置于上极板(3)与下极板(4)之间，用于输送砂粒；/n基材行走路径(6')位于上极板(3)与输送带(1)之间，基材行走路径(6')是植砂时基材(6)行走的路径；/n其特征在于：还包括筛网(8)，筛网(8)布置于输送带(1)与基材行走路径(6')之间，用于均匀化砂粒(7)，以使得砂粒(7)先上升穿过筛网(8)被均匀化后、再附着于基材(6)上。/n
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