[发明专利]一种用于光束均匀化的随机微透镜阵列结构及其制作方法在审
| 申请号： | 201910971696.5 | 申请日： | 2019-10-14 |
| 公开（公告）号： | CN110596905A | 公开（公告）日： | 2019-12-20 |
| 发明（设计）人： | 刘鑫;巩畅畅;范斌;边疆;雷柏平 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G02B27/09 | 分类号： | G02B27/09;G02B3/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于光束均匀化的随机微透镜阵列结构及其制作方法，该结构包括玻璃材料基板及其表面的随机微透镜阵列结构，且这些微透镜的尺寸和位置均随机分布。该光束均匀化结构利用尺寸和位置均随机分布的微透镜将照射到其表面的入射光束分割为无数孔径大小随机、焦距长短随机的子光束，这些子光束被随机微透镜折射后在基板后方不同位置处发生叠加，每个子光束的微小不均匀性将在叠加过程中被平滑，从而使出射光束更加均匀。该随机微透镜阵列结构的制备方法利用了随机多边形金属掩蔽层导致的随机腐蚀起始位置、玻璃内物质浓度随机分布导致的随机腐蚀速率、二氧化硅腐蚀的各向同性，实现了位置和尺寸均随机分布的微透镜制作。 | ||
| 搜索关键词： | 随机分布 微透镜 微透镜阵列结构 子光束 均匀化 腐蚀 基板 随机多边形 玻璃材料 不均匀性 出射光束 叠加过程 二氧化硅 金属掩蔽 入射光束 焦距 位置处 平滑 制备 制作 叠加 照射 折射 玻璃 分割 | ||
【主权项】：
1.一种用于光束均匀化的随机微透镜阵列结构，其特征在于：包括一种用于光束均匀化的随机微透镜阵列结构，该结构包括玻璃材料基板及其表面的随机微透镜阵列结构，且这些微透镜的尺寸和位置均随机分布，该光束均匀化结构利用尺寸和位置均随机分布的微透镜将照射到其表面的入射光束分割为无数孔径大小随机、焦距长短随机的子光束，这些子光束被随机微透镜折射后在基板后方不同位置处发生叠加，每个子光束的微小不均匀性将在叠加过程中被平滑，从而使出射光束更加均匀。/n
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