[发明专利]离子布植机内部的氟化表面的清理

摘要

本发明提出三种方式来处理氟化表面，其为离子布植机内部不可忽略的问题，并且在低能量含氟离子束被布植到碳表面及/或硅表面时会变得更严重。第一，引导氢气及/或含氢离子(原子的及/或分子的)到含氟表面，藉以使得氟键结被氢键结所取代，并进而让含氟颗粒被移除。第二，布植硼离子束(特别是具有清洁配方的硼离子束)到氟化表面，藉以使得含氟颗粒被移除。第三，调整(通常是加热)氟化表面的温度到一个温度范围，藉以使得氟键结被弱化而使得这些含氟颗粒容易被挥发而被移除。可选择地，这些含氟颗粒可以连续地、交替地或弹性地被抽真空移除。