[发明专利]一种精密金属反射光栅的制造方法在审
| 申请号： | 201910982684.2 | 申请日： | 2019-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN110703373A | 公开（公告）日： | 2020-01-17 |
| 发明（设计）人： | 魏晓蓉;朱俊涛;林树靖;张笛;王洁 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所;上海铂庚科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 31328 上海助之鑫知识产权代理有限公司 | 代理人： | 余中燕 |
| 地址： | 610042 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明涉及反射光栅的制造领域，公开了一种精密金属反射光栅的制造方法，包括以下步骤：基板研磨；基底发黑；制作光栅微结构；微电铸；脱模、超声波清洗；检测组装。本发明通过将微电铸与UV‑LIGA技术、电解抛光、电镀发黑等工艺融合，制造出反射效果好、表面光洁度高、反射线条精度高、可批量化生产、成本相对较低的精密金属反射光栅。 | ||
| 搜索关键词： | 反射光栅 精密金属 微电铸 发黑 制造 表面光洁度 超声波清洗 光栅微结构 电解抛光 反射效果 基板研磨 批量化 电镀 基底 脱模 反射 线条 组装 融合 检测 制作 生产 | ||
【主权项】：
1.一种精密金属反射光栅的制造方法，其特征在于，包括下列步骤：基板研磨：将选取好的平面金属基板采用电解抛光去除表面杂质、划痕及凹凸点，然后清洗研磨，放置烘箱中烘烤，形成研磨好的基板；/n基底发黑：对所述研磨好的基板采取电镀发黑法处理，制作出金属发黑基底；/n制作光栅微结构：对所述金属发黑基底进行制作光栅微结构处理，形成显影好的基板；/n微电铸：采用微合金沉积设备，对所述显影好的基板进行处理，完成合金沉积；/n脱模、超声波清洗：所述合金沉积的基板经脱模槽脱模后，将脱离的金属薄片使用丙酮+超声清洗，在显微镜下观察光刻胶彻底去除后结束清洗；/n检测组装：对清洗烘干后的反射光栅依次检查其相关尺寸精度、图形准确度、表面光洁度、金属片厚度，再将其进行包装。/n
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