[发明专利]一种基于周期纳米孔阵列和透镜介质微球阵列的近场超分辨光学成像方法有效
| 申请号： | 201910987418.9 | 申请日： | 2019-10-17 |
| 公开（公告）号： | CN110672883B | 公开（公告）日： | 2020-10-30 |
| 发明（设计）人： | 王宏达;石岩;邵丽娜;田昕 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春应用化学研究所 |
| 主分类号： | G01Q60/18 | 分类号： | G01Q60/18;G02B5/00;G02B27/58 |
| 代理公司： | 长春众邦菁华知识产权代理有限公司 22214 | 代理人： | 刘微 |
| 地址： | 130022 吉林*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于周期纳米孔阵列和透镜介质微球阵列的近场超分辨光学成像方法，通过周期纳米孔阵列可以将入射光拆分成10‑500nm直径的细小光束，透镜介质微球阵列可以将这些光束分别聚焦，形成光斑阵列。通过三维移动周期纳米孔阵列器件使孔阵列与透镜介质微球阵列的中心轴对应，最大程度的将被孔阵列分散的光束聚焦，得到纳米级的光斑阵列，进而实现超分辨显微成像的目的。本发明的有益效果是结合周期纳米孔阵列和透镜介质微球阵列的优势，将传统进场扫描光学显微镜的点扫描方式扩展为阵列扫描，克服了其单次成像范围小、需要极细探针、扫描过程与样品接触、无法对高度变化大的样品成像的缺陷，实现超高分辨率的显微成像。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 周期 纳米 阵列 透镜 介质 近场 分辨 光学 成像 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基于周期纳米孔阵列和透镜介质微球阵列的近场超分辨光学成像方法，其特征在于，包括以下步骤：/nS1、在近场光学显微镜的上方增加三维压电位移台，所述三维压电位移台由上至下依次安装光纤、准直器、周期纳米孔阵列和透镜介质微球阵列组成的聚焦模块，所述周期纳米孔阵列的孔间距与透镜介质微球阵列中微球间距相同，保持孔与微球中轴对应；/nS2、将样品放置于透镜介质微球阵列的焦面上，并处于近场显微镜成像范围内；/nS3、以扫描点阵的方式完成视野内样品图像采集工作；/nS4、利用三维压电位移台控制聚焦模块在样品表面逐步按次序移动，直至完成待测样品表面的图像采集；/nS5、将所有采集图像按次序拼接，实现待测样品表面超分辨图像。/n
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