[发明专利]一种用于屏蔽吸收x射线的组合结构在审
| 申请号： | 201910988646.8 | 申请日： | 2019-10-17 |
| 公开（公告）号： | CN111276271A | 公开（公告）日： | 2020-06-12 |
| 发明（设计）人： | 王鑫宏;章伟敏;暴忠坤;王洪柱 | 申请（专利权）人： | 浙江大学 |
| 主分类号： | G21F1/12 | 分类号： | G21F1/12 |
| 代理公司： | 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 | 代理人： | 尉伟敏 |
| 地址： | 310000 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于屏蔽吸收x射线的组合结构，由若干防护层组成，所述防护层包括：外层，由第一防辐射材料制成；末层，由第二防辐射材料制成，第二防辐射材料的密度大于等于第一防辐射材料的密度；若干内层，设置在外层与末层之间，由若干防辐射材料制成。其中外层直接暴露在有辐射的一侧，x射线经过外层减弱后经过内层，再经内层吸收一部分后射入末层，末层进一步吸收和阻挡，并存在小部分射线重新经过内层和外层，被进一步吸收。由于防辐射材料的差异化，使得屏蔽效果大大增强。本发明结构简单，采用多种材料组成对应的防护层，使得每一层主要吸收或损耗能量的范围不同，整体上相互弥补，大幅提高整体防辐射能力。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 屏蔽 吸收 射线 组合 结构 | ||
【主权项】：
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