[发明专利]一种均匀去除额外材料的方法有效
| 申请号： | 201910988698.5 | 申请日： | 2019-10-17 |
| 公开（公告）号： | CN110695807B | 公开（公告）日： | 2020-10-30 |
| 发明（设计）人： | 宋辞;石峰;田野;薛帅;林之凡;雍嘉浩 | 申请（专利权）人： | 中国人民解放军国防科技大学 |
| 主分类号： | B24B13/00 | 分类号： | B24B13/00;B24B49/02;B24B49/00 |
| 代理公司： | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 | 代理人： | 朱伟雄 |
| 地址： | 410073 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种均匀去除额外材料的方法，包括：(1)测量待加工光学元件面形；(2)针对待加工光学元件面形的测量结果，从预设的光顺函数库中选取不超过五组光顺参数组合构成待选加工方案，优化计算各待选加工方案的额外材料去除量的最小均方根误差值，再在所有优化计算结果中选取最小值，并输出该值对应的待选加工方案中的光顺参数组合及各组光顺参数组合的光顺时间；(3)采用步骤(2)中选取的光顺参数组合和各光顺参数组合的光顺时间对待加工光学元件进行光顺加工。本发明的方法工艺流程简单，可操作性强，其基于组合光顺，能在使得光顺后光学元件中频误差得到收敛的同时不破坏光学元件的面形。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 均匀 去除 额外 材料 方法 | ||
【主权项】：
1.一种均匀去除额外材料的方法，其特征在于，包括如下步骤：/n(1)测量待加工光学元件面形；/n(2)针对待加工光学元件表面面形的测量结果，从预设的光顺函数库中选取不超过五组光顺参数组合构成待选加工方案，优化计算各待选加工方案的额外材料去除量的最小均方根误差值以及每个待选加工方案中的每组光顺参数组合对应的光顺加工时间，再在优化计算得到的所有最小均方根误差值中选取最小值，并输出该结果对应的待选加工方案中的光顺参数组合以及各组光顺参数组合对应的光顺时间；所述预设的光顺函数库包括多组光顺参数组合以及各组光顺参数组合所对应的光顺去除函数之间的映射关系，每组所述光顺参数组合包括光顺盘与待加工工件的转速比、光顺盘的进给范围中心f
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