[发明专利]一种多规格高纯铜靶材的制备方法有效
| 申请号： | 201910992121.1 | 申请日： | 2019-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN110578126B | 公开（公告）日： | 2021-12-28 |
| 发明（设计）人： | 张雪凤;方宏;孙虎民;岳灿甫 | 申请（专利权）人： | 洛阳高新四丰电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 洛阳公信知识产权事务所(普通合伙) 41120 | 代理人： | 李现艳 |
| 地址： | 471000 河南省洛阳市中国（*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 本发明提供一种多规格高纯铜靶材的制备方法，包括以下步骤：步骤一、铜锭坯加热；步骤二、加热锭坯热轧；对步骤一中加热后的高纯铜锭进行多道次热轧制后冷却至室温；步骤三、铜靶坯校平；对冷却后的铜靶坯采用校平机进行校平；步骤四、对校平后的铜靶坯按需进行切割；步骤五、铜靶坯粗加工；对铜靶坯采用数控机床进行粗加工；步骤六、将粗加工后的铜靶坯在校平机上碾压校平，在释放加工应力的同时，平整铜靶坯弯曲；步骤七、校平后的铜靶坯在数控机床上精加工；本发明可以制备不同规格的成品铜靶材，用本发明制备的高纯铜靶材平均晶粒度≤80微米，满足了液晶面板产业对于高纯铜靶材的要求，具有显著的经济与社会效益。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 规格 高纯 铜靶材 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种多规格高纯铜靶材的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：/n步骤一、将高纯铜锭加热至温度为700~950℃，保温1~5h；/n步骤二、对步骤一中加热后的高纯铜锭进行多道次热轧制至要求的铜靶坯尺寸，冷却至室温；/n步骤三、对步骤二冷却后的铜靶坯采用校平机进行校平；/n步骤四、对步骤三校平后的铜靶坯按需进行切割；/n步骤五、将步骤四切割后的铜靶坯采用数控机床进行粗加工，多次铣削加工后的厚度为成品厚度加1~2mm，铣刀的单次铣削吃刀量为0.2~0.4mm，粗加工后靶坯表面粗糙度为1.6~6.4μm；/n步骤六、将步骤五粗加工后的铜靶坯在校平机上碾压校平，在释放加工应力的同时，平整铜靶坯弯曲；/n步骤七、校平后的铜靶坯在数控机床上精加工，多次铣削后加工至成品尺寸，铣刀的单次铣削的吃刀量为0.05~0.3mm，精加工后靶坯表面粗糙度为0.4~3.2μm。/n
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