[发明专利]一种基于机器学习确定光刻系统焦面位置的方法有效
| 申请号： | 201910993362.8 | 申请日： | 2019-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN110727178B | 公开（公告）日： | 2021-06-22 |
| 发明（设计）人： | 董立松;韦亚一;张利斌;粟雅娟 | 申请（专利权）人： | 南京诚芯集成电路技术研究院有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 南京中盟科创知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32279 | 代理人： | 孙丽君 |
| 地址： | 210000 江苏省南京市浦口区*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明的一种基于机器学习确定光刻系统焦面位置的方法，包括以下步骤：S1：选取焦面位置测量标记，于标定的光刻系统中，在已知的不同焦面位置曝光，记录位置，利用光刻空间像传感器采集并记录光刻空间像的二维分布；S2：将有光刻空间像有效结果分为训练集和测试集；S3：利用机器学习算法和训练集，建立焦面位置检测模型；S4：用测试集中的结果测试检测模型，测试通过进入下一步，测试失败返回S2；S5：测量待测光刻系统焦面位置变化，向控制系统反馈。该方法消除了测量标记制造误差以及三维衍射效应对检测方法内部数学模型的不利影响，同时测量信号从图形位置偏移这种一维信息升级为图形分布的二维信息，提升了焦面位置测量技术精度和应用范围。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 机器 学习 确定 光刻 系统 位置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基于机器学习确定光刻系统焦面位置的方法，其特征在于，包括以下步骤：/nS1：选取焦面位置测量标记，采用的焦面位置测量标记涵盖基于光刻空间像的焦面位置检测方法所使用的各种类型，于标定的光刻系统中，在已知的不同焦面位置处曝光，记录焦面当前位置，利用光刻空间像传感器采集并记录光刻空间像的二维分布；/nS2：整理光刻空间像结果，并将有效结果分为训练集和测试集；/nS3：利用机器学习算法和训练集中的结果，建立焦面位置检测模型；/nS4：采用测试集中的光刻空间像结果对检测模型进行测试，如果测试通过进入下一步，如果测试失败则返回步骤S2；/nS5：针对待测光刻系统，测量其焦面位置变化，并向控制系统反馈，以确定其焦面位置。/n
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