[发明专利]用于预清洁和蚀刻装置的高温涂层及相关方法在审
| 申请号： | 201910994560.6 | 申请日： | 2019-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN111101128A | 公开（公告）日： | 2020-05-05 |
| 发明（设计）人： | 高培培;林兴;A·德莫斯;魏创;王文涛;马明阳;P·那加拉吉 | 申请（专利权）人： | ASMIP控股有限公司 |
| 主分类号： | C23C28/04 | 分类号： | C23C28/04;C23C16/455;C23C16/30;C23C16/40;C23C16/02 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 乐洪咏;朱黎明 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了用于预清洁和蚀刻装置的高温涂层及相关方法，所述预清洁和蚀刻装置包括反应室、晶片保持器、气体传输路径、气体分配设备、气体歧管和远程等离子体单元，其中反应室、晶片保持器、气体传输路径、气体分配设备、气体岐管和远程等离子体单元中的至少之一包含具有第一层和第二层的涂层；其中涂层的第一层和第二层中的至少之一通过原子层沉积形成；并且其中第一层和第二层包含不同的材料。形成涂层的方法包括准备待涂布的第一表面；清洁第一表面；用原子层沉积技术在第一表面上沉积第一涂层；在第一涂层上沉积第二涂层；重复形成第一涂层和第二涂层的步骤；以及对复合涂层进行涂布后处理。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 清洁 蚀刻 装置 高温 涂层 相关 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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