[发明专利]用于量子级联激光器的太赫兹可饱和吸收装置有效

专利信息
申请号: 201910994604.5 申请日: 2019-10-18
公开(公告)号: CN110620329B 公开(公告)日: 2020-07-28
发明(设计)人: 曾和平;马艳颖;袁帅;聂源;王瑾;王勇;沈嘉伟 申请(专利权)人: 华东师范大学重庆研究院;华东师范大学;上海理工大学
主分类号: H01S5/06 分类号: H01S5/06;H01S5/042;C23C14/35;C23C14/18;C23C14/16
代理公司: 重庆博凯知识产权代理有限公司 50212 代理人: 黄河
地址: 401123 重庆市渝北*** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 发明涉及超快光学应用技术领域,具体涉及用于量子级联激光器的太赫兹可饱和吸收装置,包括基底芯片,包括基底层,以及镀于所述基底层表面的GST膜层;所述GST膜层在基底层的表面形成GST可饱和吸收部;驱动源部,与基底层电连接,用于输出定向电压驱动基底层中的载流子迁移,以改变GST可饱和吸收部对太赫兹波的吸收率,使得GST可饱和吸收部能够增强对低能量太赫兹波的吸收率,且减弱对高能量太赫兹波的吸收率,对太赫兹波进行可饱和吸收。本发明的太赫兹可饱和吸收器能够更好的配合量子级联激光器,且能够对太赫兹进行可饱和吸收,能够辅助量子级联激光器实现输出太赫兹辐射脉冲窄化,并兼顾提升太赫兹波的吸收效果。
搜索关键词: 用于 量子 级联 激光器 赫兹 饱和 吸收 装置
【主权项】:
1.用于量子级联激光器的太赫兹可饱和吸收装置,其特征在于,包括:/n基底芯片,包括基底层,以及镀于所述基底层表面的GST膜层;所述GST膜层在基底层的表面形成GST可饱和吸收部;/n驱动源部,与基底层电连接,用于输出定向电压驱动基底层中的载流子迁移,以改变GST可饱和吸收部对太赫兹波的吸收率,使得GST可饱和吸收部能够增强对低能量太赫兹波的吸收率,且减弱对高能量太赫兹波的吸收率,对太赫兹波进行可饱和吸收。/n
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