[发明专利]高阴离子透过性高离子选择性阴离子交换膜及其制备方法与应用

摘要

本发明公开了高阴离子透过性高离子选择性阴离子交换膜及其制备方法与应用。离子交换膜的材料为具有1‑6碳的疏水烷基修饰的自由双阳离子串结构型聚苯醚离聚物，在IEC为1.30‑2.59meq/g时，离子选择透过性为90％‑96％，面电阻为1.60‑5.57Ω/cm2。本发明通过在聚2,6‑二甲基苯醚骨架上引入1‑6碳的疏水烷基修饰的串联双阳离子，有效的提高所得膜的电荷密度，解决了商品化单季铵离子PPO类阴离子交换膜在具有较高IEC时阴阳离子选择性低的问题，在提高膜的阴阳离子选择透过性的同时增强膜的离子传导性，且具有良好的机械性能，能够满足电渗析过程对阴离子交换膜的综合性能的要求。

主权项

1.高阴离子透过性高离子选择性阴离子交换膜，其特征在于，所述阴离子交换膜的材料为具有1-6碳的疏水烷基修饰的自由双阳离子串结构型聚苯醚离聚物，结构式如下：/n