[发明专利]量子点膜及其制备方法、背光源、显示装置有效
| 申请号： | 201911001913.4 | 申请日： | 2019-10-21 |
| 公开（公告）号： | CN110703498B | 公开（公告）日： | 2022-12-27 |
| 发明（设计）人： | 张卿彦;周俊丽;李强;付开鹏;赵亮亮;李平礼;刘阳;介春利 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/13357 | 分类号： | G02F1/13357 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 曲鹏;解婷婷 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供一种量子点膜及其制备方法、背光源、显示装置。量子点膜包括相对设置的第一基底和第二基底，以及位于所述第一基底和第二基底之间的量子点层，所述第一基底和/或第二基底的材料包括热触发自修复材料。本发明通过热触发自修复材料的基底吸收LED工作过程中和量子点光转换过程中产生的热量，不仅降低了量子点的工作温度，而且修复了基底的老化或损伤，最大限度地提高了量子点膜的性能和使用寿命，有效解决了现有量子点膜存在的使用寿命短等问题。 | ||
| 搜索关键词： | 量子 及其 制备 方法 背光源 显示装置 | ||
【主权项】：
1.一种量子点膜，其特征在于，包括相对设置的第一基底和第二基底，以及位于所述第一基底和第二基底之间的量子点层，所述第一基底和/或第二基底的材料包括热触发自修复材料。/n
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