[发明专利]晶圆清洗装置在审
| 申请号： | 201911004726.1 | 申请日： | 2019-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN110694991A | 公开（公告）日： | 2020-01-17 |
| 发明（设计）人： | 唐卫 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | B08B3/04 | 分类号： | B08B3/04;B08B3/14;B08B3/02;H01L21/02;H01L21/67 |
| 代理公司： | 44202 广州三环专利商标代理有限公司 | 代理人： | 郝传鑫;熊永强 |
| 地址： | 430074 湖北省武汉市洪山区东*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种晶圆清洗装置，所述晶圆清洗装置包括清洗槽及升降机构，所述清洗槽用于清洗晶圆，所述升降机构包括升降本体、支撑件及清洗部，所述升降本体设于所述清洗槽的底部并可在所述清洗槽内相对所述清洗槽的槽底壁升降，所述支撑件设于所述升降本体的顶部以固定待清洗的所述晶圆，并通过所述升降本体的升降带动所述晶圆升降，所述清洗部设于所述升降本体或者所述支撑件上，并用于在清洗所述晶圆前后对所述支撑件进行清洗。本发明的晶圆清洗装置，解决了现有技术的支撑件上的污垢会污染晶圆，造成晶圆缺陷，导致晶圆良率降低的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 晶圆 升降本体 清洗槽 支撑件 清洗 晶圆清洗装置 升降 升降机构 晶圆缺陷 清洗装置 槽底壁 污垢 良率 种晶 污染 | ||
【主权项】：
1.一种晶圆清洗装置，其特征在于，所述晶圆清洗装置包括清洗槽及升降机构，所述清洗槽用于清洗晶圆，所述升降机构包括升降本体、支撑件及清洗部，所述升降本体设于所述清洗槽的底部并可在所述清洗槽内相对所述清洗槽的槽底壁升降，所述支撑件设于所述升降本体的顶部以固定待清洗的所述晶圆，并通过所述升降本体的升降带动所述晶圆升降，所述清洗部设于所述升降本体或者所述支撑件上，并用于在清洗所述晶圆前后对所述支撑件进行清洗。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于长江存储科技有限责任公司，未经长江存储科技有限责任公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201911004726.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种电气设备带电喷扫清污装置及操作方法
- 下一篇：钢丝双水洗装置
