[发明专利]钴掺杂多孔氧化镍气敏材料、气敏元件及制备方法与应用在审

专利信息
申请号: 201911006622.4 申请日: 2019-10-22
公开(公告)号: CN110844948A 公开(公告)日: 2020-02-28
发明(设计)人: 刘沛源 申请(专利权)人: 刘沛源
主分类号: C01G53/04 分类号: C01G53/04;G01N27/12
代理公司: 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 代理人: 王磊
地址: 250100 山东省济南市历城区*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 本公开提供了钴掺杂多孔氧化镍气敏材料、气敏元件及制备方法与应用,气敏材料由基体相和掺杂相组成,所述基体相为多孔氧化镍,所述多孔氧化镍为氧化镍纳米片自组装成的多孔球,所述多孔球的直径为2~10μm,氧化镍纳米片的厚度为10~30nm,掺杂相为钴离子,掺杂相以钴离子的形式掺杂于基体相晶格内部。其制备方法为采用水热法将基体相原料、掺杂相原料和沉淀剂制备成气敏材料前驱体,在将气敏材料前驱体进行煅烧获得钴掺杂多孔氧化镍气敏材料。本公开提供的气敏材料针对H2S气体具有高的灵敏度、优异的选择性,以及快的响应回复速度,可用于H2S气体的检测。本公开的制备方法简单,工艺参数易控制,操作容易且成本低。
搜索关键词: 掺杂 多孔 氧化 镍气敏 材料 元件 制备 方法 应用
【主权项】:
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