[发明专利]一种高功率外腔半导体激光器有效

专利信息
申请号: 201911007127.5 申请日: 2019-10-22
公开(公告)号: CN110600995B 公开(公告)日: 2021-06-04
发明(设计)人: 王智勇;王聪聪 申请(专利权)人: 北京工业大学
主分类号: H01S5/183 分类号: H01S5/183
代理公司: 北京汇信合知识产权代理有限公司 11335 代理人: 周文
地址: 100124 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种高功率外腔半导体激光器,外腔VCSEL阵列面光源由多个VCSEL阵列光源构成,VCSEL阵列光源的P型外延层为多膜全反射P型外延层,VCSEL阵列光源的N型外延层为多膜部分反射N型外延层,N型外延层的反射率为50‑90%;外腔VCSEL阵列面光源安装在凹面反射镜的凹面上,45°斜角圆柱反射镜的中部开有凹槽,凸面外腔反射镜安装在凹槽内且正对外腔VCSEL阵列面光源。本发明利用凹面反射镜、多膜全反射P型外延层、多膜部分反射N型外延层和凸面外腔反射镜构成耦合谐振腔;利用耦合谐振腔对光束的反馈调节作用,控制不同传输模式的损耗,抑制高阶模式,实现阵列单元间的相位锁定,从而提高输出光束的光束质量。
搜索关键词: 一种 功率 半导体激光器
【主权项】:
1.一种高功率外腔半导体激光器,其特征在于,包括:凹面反射镜、外腔VCSEL阵列面光源、45°斜角圆柱反射镜和凸面外腔反射镜;/n所述外腔VCSEL阵列面光源由多个VCSEL阵列光源构成,所述VCSEL阵列光源的P型外延层为多膜全反射P型外延层,所述VCSEL阵列光源的N型外延层为多膜部分反射N型外延层,所述N型外延层的反射率为50-90%;/n所述外腔VCSEL阵列面光源安装在所述凹面反射镜的凹面上,所述45°斜角圆柱反射镜的中部开有凹槽,所述凸面外腔反射镜安装在所述凹槽内且正对所述外腔VCSEL阵列面光源;/n所述外腔VCSEL阵列面光源的激光经所述凸面外腔反射镜反射至所述凹面反射镜,经所述凹面反射镜竖直反射至所述45°斜角圆柱反射镜,经所述45°斜角圆柱反射镜后水平输出。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京工业大学,未经北京工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201911007127.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top