[发明专利]一种可以同时测量共吸附剂和染料质量的方法在审
| 申请号： | 201911011677.4 | 申请日： | 2019-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN110595937A | 公开（公告）日： | 2019-12-20 |
| 发明（设计）人： | 毛志敏;刘伟庆;蔡洪峰;姜海燕 | 申请（专利权）人： | 南昌航空大学 |
| 主分类号： | G01N5/02 | 分类号： | G01N5/02;G01N21/31 |
| 代理公司： | 36111 南昌洪达专利事务所 | 代理人： | 黄文亮 |
| 地址： | 330063 江*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种可同时测量石英晶振片上染料和共吸附剂分子质量的方法，它是基于石英微天平与紫外可见光光分度计可测试石英晶振片上染料分子数的方法，可以准确测得在光敏化剂及共吸附剂在晶振片上的吸附质量。本发明与现有检测染料质量技术相比，存在以下优势：1、解决以往有色与无色混合溶液检测的复杂分离实验步骤；2、通过可见光光分度及与石英微天平的混合使用，在不破坏检测物质的基础上，简单便捷的检测出所需物质的质量；3、通过做差法，可以达到在一块石英晶振片上同时检测混合的有色及无色染料的各自质量效果。 | ||
| 搜索关键词： | 检测 石英晶振片 石英微天平 共吸附剂 晶振片 染料 分度 测量石英 分离实验 光敏化剂 混合溶液 破坏检测 染料分子 无色染料 质量技术 质量效果 紫外可见 可测试 无色 差法 吸附 | ||
【主权项】：
1.一种可以同时测量共吸附剂和染料质量的方法，其特征在于，其步骤方法如下：/n（1）在石英晶振片基底上制备纳米多孔半导体薄膜，石英晶体基体三块涂制区域分别为A、b
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