[发明专利]一种掩模版检测装置、光刻设备及掩模版检测方法在审
| 申请号： | 201911012167.9 | 申请日： | 2019-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN112697794A | 公开（公告）日： | 2021-04-23 |
| 发明（设计）人： | 杜艳伟;陆海亮;邓帅飞;王婷婷;宋春峰 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/88 | 分类号： | G01N21/88;G01N21/898;G01N21/01;G03F1/84 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 孟金喆 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开一种掩模版检测装置、光刻设备及掩模版检测方法，装置包括：照明单元，用于对待检测掩模版提供暗场的偶极照明；成像单元，用于接收照明单元产生的光经待检测掩模版表面后形成的漫反射光；探测单元，用于采集待检测掩模版经成像单元所成的像；处理单元，与探测单元电连接，用于处理分析待检测掩模版所成像的图像数据；其中，偶极照明关于成像单元的主光轴对称，且照明单元和待检测掩模版可绕成像单元的主光轴相对旋转。本发明能够避免周期性的金属纹理的反射光发生相长干涉造成误检，以及避免相长干涉信号淹没缺陷信号造成漏检的现象，消除了金属纹理对掩模版检测结果的影响。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 模版 检测 装置 光刻 设备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备(集团)股份有限公司，未经上海微电子装备(集团)股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201911012167.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
