[发明专利]高功率激光系统中反射光学元件的制备及其测温方法有效
| 申请号： | 201911012197.X | 申请日： | 2019-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN110736561B | 公开（公告）日： | 2020-09-15 |
| 发明（设计）人： | 晋云霞;徐姣;邵建达;张益彬;王勇禄;曹红超;孔钒宇;陈俊明 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G01K11/18 | 分类号： | G01K11/18;G02B5/08;G02F1/01 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： |
一种高功率激光系统中反射光学元件的制备及其测温方法，反射光学元件的制备包括步骤：在基底材料上利用磁控溅射镀制一层VO |
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| 搜索关键词： | 功率 激光 系统 反射 光学 元件 制备 及其 测温 方法 | ||
【主权项】：
1.一种高功率激光系统中反射光学元件的制备方法，其特征在于，该制备方法包含如下步骤：/n第一步在基底材料上利用磁控溅射镀制一层厚度为50-70nm的VO
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