[发明专利]半导体器件在审

专利信息
申请号: 201911021012.1 申请日: 2019-10-25
公开(公告)号: CN111146279A 公开(公告)日: 2020-05-12
发明(设计)人: 李炳训;朴钟昊;金完敦;玄尚镇 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: H01L29/423 分类号: H01L29/423;H01L29/51;H01L29/78;H01L27/088
代理公司: 北京市立方律师事务所 11330 代理人: 李娜;王占杰
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种半导体器件包括:多个半导体图案,所述多个半导体图案在衬底上顺序地堆叠并彼此间隔开;以及栅电极,所述栅电极位于所述多个半导体图案上。所述栅电极包括顺序地堆叠在所述多个半导体图案上的覆盖图案和功函数图案。所述覆盖图案包括第一金属氮化物层和第二金属氮化物层,所述第一金属氮化物层包括第一金属元素,所述第二金属氮化物层包括功函数大于所述第一金属元素的功函数的第二金属元素。所述第一金属氮化物层设置在所述第二金属氮化物层与所述多个半导体图案之间。所述第一金属氮化物层比所述第二金属氮化物层薄。
搜索关键词: 半导体器件
【主权项】:
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