[发明专利]用于400-1000nm波段的单层梯形光栅结构及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201911024094.5 申请日: 2019-10-28
公开(公告)号: CN111090138A 公开(公告)日: 2020-05-01
发明(设计)人: 赵永强;汤超龙;刘芯羽 申请(专利权)人: 西北工业大学深圳研究院
主分类号: G02B5/18 分类号: G02B5/18
代理公司: 西安匠成知识产权代理事务所(普通合伙) 61255 代理人: 陈婵歌
地址: 518063 广东省深圳市南山区高*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种用于400‑1000nm波段的单层梯形光栅结构及其制备方法,解决了现有多层光栅结构选材复杂,加工工艺步骤多、误差大的问题。本发明包含光栅层和基底层;所述光栅层为单层梯形光栅结构;所述单层梯形光栅结构为单层光栅层的表面蚀刻出均布的若干横截面为梯形的光栅结构造型;所述基底层的材质为石英,形成石英基片;所述光栅层的材质采用氮化硅陶瓷,形成氮化硅层。
搜索关键词: 用于 400 1000 nm 波段 单层 梯形 光栅 结构 及其 制备 方法
【主权项】:
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