[发明专利]基于半定优化的散射介质成像方法、系统及介质在审

专利信息
申请号: 201911025090.9 申请日: 2019-10-25
公开(公告)号: CN110987818A 公开(公告)日: 2020-04-10
发明(设计)人: 高叶盛;陈卉;刘兴钊 申请(专利权)人: 上海交通大学
主分类号: G01N21/25 分类号: G01N21/25;G06K9/46;G06T11/00
代理公司: 上海段和段律师事务所 31334 代理人: 李佳俊;郭国中
地址: 200240 *** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明提供了一种基于半定优化的散射介质成像方法、系统及介质,包括:散射介质的散射特性提取步骤:在散射介质存在情况下,通过采集一组已知物体图像对应的输出散斑图案,估计出散射介质对应的散射特性;图像重建步骤:在估计出散射介质对应的散射特性矩阵之后,根据半定优化理论,通过求解一个半定规划问题得到待重建物体图像与其厄米特转置的乘积,然后提取这个乘积的最大特征值对应的特征向量,从而实现散射介质成像。本发明用来改善在散射介质存在情况下的成像精度及效率,在提升效率的同时保证成像精度。
搜索关键词: 基于 优化 散射 介质 成像 方法 系统
【主权项】:
暂无信息
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