[发明专利]一种纳米粒子图案化装置及纳米粒子图案化方法在审

专利信息
申请号: 201911028123.5 申请日: 2019-10-28
公开(公告)号: CN112736212A 公开(公告)日: 2021-04-30
发明(设计)人: 周淼;赵金阳 申请(专利权)人: TCL华星光电技术有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;B82Y10/00;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 黄灵飞
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 一种纳米粒子图案化装置及纳米粒子图案化方法,该装置包括相对设置的上绝缘基板和下绝缘基板,上绝缘基板靠近所述下绝缘基板一侧设有一图案化电极,下绝缘基板周围设有挡板以形成容置槽;通过图案化电极图案的设置,可以对同一种纳米材料形成的图案在交流电场的施加中一次成型,并且该图案化电极可根据实际需要设计并可重复利用,节约了制作成本,此外,本申请通过基于胶体纳米粒子分散体系中,纳米粒子在交流电场的作用下聚集在电极附近的方式,实现对特定图案一次成型的效果,并且,可以通过电极的二次对位,实现其它纳米粒子在同一基板上图案化,尤其是此种方式运用于量子点显示领域,非常适合量子点膜的大批量制作,也极大的降低了生产成本。
搜索关键词: 一种 纳米 粒子 图案 化装 方法
【主权项】:
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