[发明专利]聚合物分散剂及其制备方法、炭黑分散体的制备方法及其应用在审
申请号: | 201911032075.7 | 申请日: | 2019-10-28 |
公开(公告)号: | CN110724231A | 公开(公告)日: | 2020-01-24 |
发明(设计)人: | 刘雪 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | C08F222/20 | 分类号: | C08F222/20;C08F220/34;C09C1/56;C09C3/10;G03F7/004;C09D17/00 |
代理公司: | 44570 深圳紫藤知识产权代理有限公司 | 代理人: | 李新干 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供一种聚合物分散剂及其制备方法、炭黑分散体的制备方法、炭黑分散体的应用,所述聚合物分散剂具有聚合物长链以及至少连接在聚合物长链两端的锚定基团。本发明的技术效果在于,提供一种聚合物分散剂及其制备方法、炭黑分散体的制备方法及其应用,由聚合物单体Bis‑GMA与DMAEMA通过C=C双键发生自由基聚合反应,得到主体为聚合物长链,具有两端含有季胺基团的结构的聚合物分散剂,季胺基团属于碱性基团与炭黑表面‑COOH发生酸碱反应,形成炭黑分散体。所述炭黑分散体的聚合物长链属于甲基丙烯酸酯,所述甲基丙烯酸酯与光刻胶具有较好的相容性。 | ||
搜索关键词: | 炭黑分散体 聚合物分散剂 聚合物长链 制备 甲基丙烯酸酯 季胺基团 聚合物单体 自由基聚合 技术效果 碱性基团 锚定基团 酸碱反应 炭黑表面 光刻胶 相容性 双键 应用 | ||
【主权项】:
1.一种聚合物分散剂,其特征在于,其具有聚合物长链以及至少连接在聚合物长链两端的锚定基团。/n
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