[发明专利]基材表面装饰图形与微观形纹理加工方法在审
| 申请号： | 201911036085.8 | 申请日： | 2019-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN110723909A | 公开（公告）日： | 2020-01-24 |
| 发明（设计）人： | 李可峰;许仁;王伟 | 申请（专利权）人： | 维达力实业(深圳)有限公司;万津科技有限公司 |
| 主分类号： | C03C15/00 | 分类号： | C03C15/00;C23F1/12 |
| 代理公司： | 44224 广州华进联合专利商标代理有限公司 | 代理人： | 王南杰 |
| 地址： | 518129 广东省深圳市龙岗区坂田街*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明公开了一种基材表面装饰图形与微观形纹理加工方法。该方法包括如下步骤：在基材表面制作掩膜保护层形成保护中间体，基材表面上具有所述掩膜保护层的区域形成保护图形区域，其他区域形成显形加工区域；将保护中间体进行干法蚀刻加工形成蚀刻中间体，干法蚀刻加工包括如下工艺：在真空环境下，通过离子源把反应气氛离子化，参与反应的离子与保护中间体上的显形加工区域的组份发生反应，反应生成物以气氛状态脱离保护中间体的表面，并形成保护图形区域与显形加工区域的高度差，实现保护中间体的表面蚀刻；去除所述蚀刻中间体上的所述掩膜保护层，得到加工基材。该方法精度高、易转换蚀刻图形、周期短，减少环境污染使蚀刻加工更加环保。 | ||
| 搜索关键词： | 蚀刻 显形 加工区域 保护层 掩膜 干法蚀刻 基材表面 区域形成 图形区域 反应生成物 表面蚀刻 表面装饰 反应气氛 加工基材 气氛状态 蚀刻加工 纹理加工 真空环境 高度差 离子化 离子源 种基材 组份 去除 加工 离子 微观 转换 脱离 制作 环保 | ||
【主权项】：
1.一种基材表面装饰图形与微观形纹理加工方法，其特征在于，包括如下步骤：/n在基材表面制作掩膜保护层形成保护中间体，所述基材表面上具有所述掩膜保护层的区域形成保护图形区域，其他区域形成显形加工区域；/n将保护中间体进行干法蚀刻加工形成蚀刻中间体，所述干法蚀刻加工包括如下工艺：在真空环境下，通过离子源把反应气氛离子化，参与反应的离子与所述保护中间体上的所述显形加工区域的组份发生反应，反应生成物以气氛状态脱离所述保护中间体的表面，并形成所述保护图形区域与所述显形加工区域的高度差和蚀刻后形貌，实现所述保护中间体的表面蚀刻及蚀刻形貌形成；/n去除所述蚀刻中间体上的所述掩膜保护层，得到加工基材。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于维达力实业(深圳)有限公司;万津科技有限公司，未经维达力实业(深圳)有限公司;万津科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201911036085.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
