[发明专利]一种还原氧化石墨烯膜及其制备方法在审
| 申请号： | 201911043381.0 | 申请日： | 2019-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN111908455A | 公开（公告）日： | 2020-11-10 |
| 发明（设计）人： | 王宏伟;陈亚楠;刘楠;徐洁 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | C01B32/184 | 分类号： | C01B32/184;G01N23/04;G01N23/046;G01N23/2005;G01N23/207 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人： | 王春霞 |
| 地址： | 100084 北京市海淀区北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种还原氧化石墨烯膜及其制备方法。所述还原氧化石墨烯膜的制备方法包括如下步骤：将氧化石墨烯转移至电镜载网上，经还原即得；所述还原的步骤如下：在氩氢气的环境下，加热至300～600℃并恒温，实现对所述氧化石墨烯的还原。本发明还原氧化石墨烯膜的导电性更强，因而能够减少拍照曝光时电子造成的漂移；与氧化石墨烯相比，还原氧化石墨烯的导电性更高，减少光束照射带来的样品漂移问题。此外，还原氧化石墨烯的厚度更薄，因此透射电子显微镜照片的背景噪音也更低。本发明提供的还原氧化石墨烯膜能够给冷冻电镜的制样以及后期三维重构带来极大便利。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 还原 氧化 石墨 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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