[发明专利]基板保护膜形成用组合物和图案形成方法有效
| 申请号： | 201911044993.1 | 申请日： | 2019-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN111123651B | 公开（公告）日： | 2023-08-22 |
| 发明（设计）人： | 小林知洋;及川健一;提箸正义;阿达铁平 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;G03F7/004;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 刘强 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及基板保护膜形成用组合物和图案形成方法。包括下述组分的组合物适于形成基板与抗蚀剂膜之间的保护膜：(A)聚合物，其包含具有用酸不稳定基团保护的羧基的重复单元(a1)和具有环状酯、环状碳酸酯或环状磺酸酯结构的重复单元(a2)，(B)热致产酸剂，和(C)有机溶剂。即使使用含有金属的抗蚀剂膜，该保护膜对于防止该基板被金属污染也有效。 | ||
| 搜索关键词： | 保护膜 形成 组合 图案 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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