[发明专利]激光二极管及其制作方法有效
申请号: | 201911047057.6 | 申请日: | 2019-10-30 |
公开(公告)号: | CN111106534B | 公开(公告)日: | 2020-11-27 |
发明(设计)人: | 兰叶;吴志浩 | 申请(专利权)人: | 华灿光电股份有限公司 |
主分类号: | H01S5/22 | 分类号: | H01S5/22;H01S5/323;H01S5/00 |
代理公司: | 北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 | 代理人: | 吕耀萍 |
地址: | 430223 湖北省*** | 国省代码: | 湖北;42 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本公开公开了一种激光二极管及其制作方法,属于半导体技术领域。包括衬底、外延层、N型电极、P型电极、第一反射层和第二反射层;外延层包括缓冲层、N型半导体层、有源层和P型半导体层;P型半导体层的表面为脊波导结构,P型半导体层上设有第一凹槽和第二凹槽,P型半导体层和有源层形成柱体结构,柱体结构的侧面包括第一曲面、第一平面、第二曲面和第二平面,第一平面和第二平面平行于脊波导结构中脊的延伸方向,第一曲面和第二曲面上点的曲率在从第一平面到第二平面的方向上先减小至0、再保持为0、最后从0开始增大;第一反射层和第二反射层分别铺设在第一曲面和第二曲面上。本公开可提高激光二极管的出光效率。 | ||
搜索关键词: | 激光二极管 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华灿光电股份有限公司,未经华灿光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201911047057.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。