[发明专利]印染废水深度处理工艺及系统在审

专利信息
申请号: 201911050298.6 申请日: 2019-10-31
公开(公告)号: CN110697994A 公开(公告)日: 2020-01-17
发明(设计)人: 王皖蒙 申请(专利权)人: 中冶华天工程技术有限公司;中冶华天南京工程技术有限公司
主分类号: C02F9/14 分类号: C02F9/14;C02F11/12;C02F101/30;C02F103/30
代理公司: 11325 北京中伟智信专利商标代理事务所 代理人: 张岱
地址: 243000 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开一种印染废水深度处理工艺及系统。包括调节池、高级氧化池、酸解池、曝气滤池和清水池。废水经调节池调节水质和水量,然后进入高级氧化池去除难降解有机污染物等,提高B/C比,再进入酸解池进一步去除难降解有机污染物等,再经曝气滤池有效去除易降解有机污染物,最后经沉淀和过滤后达标排放。
搜索关键词: 去除 难降解有机污染物 高级氧化池 曝气滤池 调节池 酸解 印染废水深度处理 降解有机污染物 工艺及系统 达标排放 清水池 沉淀 过滤 废水 水质
【主权项】:
1.一种印染废水深度处理系统,其特征在于:包括依次连通的调节池、高级氧化池、酸解池、曝气滤池和清水池;/n其中,所述的高级氧化池(1)包括搅拌氧化区(1-1)和沉淀区(1-2),搅拌氧化区底部设有氧化池进水管(1-3),氧化池进水管(1-3)连通调节池出水管;搅拌氧化区中下部设有二氧化氯添加计量器(1-4)和过氧化氢添加计量器(1-5),在搅拌氧化区中部设置有氧化池搅拌器(1-6);所述沉淀区内设有挡板(1-7),沉淀区的出口处设有氧化池三相分离器(1-8),沉淀区的出口上部设有氧化池溢水堰(1-9),氧化池溢水堰(1-9)连通氧化池出水管,沉淀区底部设计成锥形结构,在沉淀区底部设置有氧化池排放阀(1-10);/n
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