[发明专利]一种厚膜光刻胶显影工艺在审
| 申请号： | 201911051718.2 | 申请日： | 2019-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN112748646A | 公开（公告）日： | 2021-05-04 |
| 发明（设计）人： | 张德强;朴勇男;邢栗;关丽;张晨阳;孙洪君;王延明 | 申请（专利权）人： | 沈阳芯源微电子设备股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30 |
| 代理公司： | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人： | 于晓波 |
| 地址： | 110168 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种厚膜光刻胶显影工艺，属于光刻胶显影工艺技术领域。该工艺首先在转动的晶圆表面用单个显影喷头喷显影液；去离子水冲洗后旋转甩去多余的去离子水；然后采用扫描式显影喷头喷洒显影液；采用动态显影方式进行显影；用去离子水冲洗显影液及反应残留物后甩干。该工艺可以让显影液与厚膜光刻胶进行充分的反应，使晶圆无光刻胶残留，并完全去除显影过程中产生的残渣，以有效地减少线宽中的缺陷，该方法能够改善显影线宽不均匀现象，减少显影过程中的缺陷数量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 显影 工艺 | ||
【主权项】：
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