[发明专利]基于有效成像像素的红外辐射特性测量小目标判断方法有效

专利信息
申请号: 201911052223.1 申请日: 2019-10-31
公开(公告)号: CN110765631B 公开(公告)日: 2023-03-14
发明(设计)人: 王伟超;王发年;程军练;雷腾;司文涛;王卫杰;吴统邦;张浩元;袁光福;甘世奇 申请(专利权)人: 中国人民解放军95859部队
主分类号: G06F30/20 分类号: G06F30/20;G06T11/20;G06F17/14
代理公司: 北京国林贸知识产权代理有限公司 11001 代理人: 李桂玲;杜国庆
地址: 735000 甘*** 国省代码: 甘肃;62
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摘要: 发明公开了一种基于有效成像像素的红外辐射特性测量小目标判断方法,建立基于点扩散函数的离散系统成像模型,其中,基于建立的离散系统成像模型仿真生成一系列不同理论边长的正方形目标图像;获取图像中的目标有效成像像素数;计算目标理论成像像素数与有效成像像素数的比值,得到所述比值随目标理论边长变化的特征曲线;以特征曲线上升至一个设定值时的目标有效成像像素数作为小目标判断的阈值有效成像像素数,将有效成像像素数小于阈值有效成像像素数的目标判定为小目标,反之则判定为面目标。本发明具有操作性强、适用性广的特点,可作为一种通用的判断方法。
搜索关键词: 基于 有效 成像 像素 红外 辐射 特性 测量 目标 判断 方法
【主权项】:
1.基于有效成像像素的红外辐射特性测量小目标判断方法,建立基于点扩散函数的离散系统成像模型,其特征在于,基于建立的离散系统成像模型仿真生成一系列不同理论边长的正方形目标图像;获取图像中的目标有效成像像素数;计算目标理论成像像素数与有效成像像素数的比值,得到所述比值随目标理论边长变化的特征曲线;以特征曲线上升至一个设定值时的目标有效成像像素数作为小目标判断的阈值有效成像像素数,将有效成像像素数小于阈值有效成像像素数的目标判定为小目标,反之则判定为面目标。/n
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