[发明专利]一种抗温度干扰的光学超表面聚焦成像元件及其方法在审
| 申请号： | 201911057542.1 | 申请日： | 2019-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN110780366A | 公开（公告）日： | 2020-02-11 |
| 发明（设计）人： | 顾天奇;胡晨捷;涂毅;郭子明 | 申请（专利权）人： | 福州大学 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00;G02B27/00 |
| 代理公司： | 35100 福州元创专利商标代理有限公司 | 代理人： | 陈明鑫;蔡学俊 |
| 地址： | 350108 福建省福州市*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种抗温度干扰的光学超表面聚焦成像元件，所述元件包括二氧化硅基底和碳化硅纳米柱；所述纳米柱在基底上进行正方形阵列排序，并旋转预设的角度用于调制入射光的相位。本发明由亚波长间距纳米结构长方体阵列组成的超表面透镜，该透镜集成度高，尺寸小，厚度薄，可以在微米量级。 | ||
| 搜索关键词： | 透镜 长方体阵列 二氧化硅基 抗温度干扰 碳化硅纳米 正方形阵列 表面透镜 聚焦成像 纳米结构 微米量级 集成度 纳米柱 入射光 亚波长 基底 预设 调制 排序 | ||
【主权项】：
1.一种抗温度干扰的光学超表面聚焦成像元件，其特征在于，所述元件包括二氧化硅基底和碳化硅纳米柱；所述纳米柱在基底上进行正方形阵列排序，并旋转预设的角度用于调制入射光的相位。/n
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